- 28,608
- 46
- 8 Ноя 2022
Новое оборудование поможет создавать чиплеты, фотонные компоненты, квантовые устройства и сложные многокристальные системы.
<div class="articl-text-cover" style="position:relative;width:100%;max-width:800px;margin-left:auto;margin-right:auto;aspect-ratio:1400/788;margin-bottom:2rem;overflow:hidden">
<div itemprop="articleBody">Тайваньские исследователи получат установку, которая переносит рисунок микросхемы прямо на пластину без дорогих фотошаблонов. Национальный университет Цинхуа заказал у американской Multibeam новую электронно-лучевую систему MBX, способную ускорить создание экспериментальных чипов и приблизить перспективные разработки к серийному производству.
Оборудование установят в новом центре Колледжа исследований полупроводников. Университет планирует применять MBX не только в научных проектах, но и в совместных программах с ведущими тайваньскими производителями микросхем. Поставку запланировали на 2027 год. Заказ станет первым контрактом Multibeam на Тайване, который остаётся одним из главных мировых центров полупроводниковой промышленности.
Обычная электронно-лучевая литография формирует нанометровый рисунок с помощью тонкого пучка электронов. Метод обеспечивает высокую точность и не требует фотомасок, однако один луч работает слишком медленно для многих производственных задач. Multibeam разместила в MBX несколько миниатюрных электронных колонн, которые независимо наносят разные участки рисунка одновременно.
Параллельная работа повышает производительность и позволяет быстро менять конструкцию будущего устройства. Исследователи могут подготовить цифровой макет и почти сразу перенести его на пластину, не заказывая новый комплект масок после каждой правки. По данным производителя, MBX работает более чем в десять раз быстрее традиционных однолучевых систем и создаёт отдельные элементы размером от 30 нанометров. Платформа поддерживает кремниевые пластины, стекло и полупроводниковые материалы на основе карбида кремния, нитрида галлия и фосфида индия.
Университет намерен использовать установку прежде всего для усовершенствованной упаковки чипов. MBX сможет печатать плотные соединения между отдельными кристаллами и корректировать рисунок с учётом их реального положения на подложке. Такой подход нужен для гетерогенной интеграции, при которой процессоры, память, фотонные компоненты и специализированные ускорители объединяют в одном корпусе.
Платформа также рассчитана на исследования в области кремниевой фотоники, квантовых вычислений и сложных многокристальных систем. Для подобных направлений гибкость часто важнее предельной миниатюризации, поэтому электронно-лучевая запись способна дополнить оптическую и экстремальную ультрафиолетовую литографию, а не заменить их.
Multibeam называет MBX своей системой второго поколения. Компания рассчитывает занять нишу между лабораторными электронно-лучевыми установками и крупносерийным производственным оборудованием. Заказ Национального университета Цинхуа станет одной из первых проверок, сможет ли многолучевая литография ускорить не только эксперименты, но и внедрение новых способов сборки микросхем.
<div class="articl-text-cover" style="position:relative;width:100%;max-width:800px;margin-left:auto;margin-right:auto;aspect-ratio:1400/788;margin-bottom:2rem;overflow:hidden">
<div itemprop="articleBody">Тайваньские исследователи получат установку, которая переносит рисунок микросхемы прямо на пластину без дорогих фотошаблонов. Национальный университет Цинхуа заказал у американской Multibeam новую электронно-лучевую систему MBX, способную ускорить создание экспериментальных чипов и приблизить перспективные разработки к серийному производству.
Оборудование установят в новом центре Колледжа исследований полупроводников. Университет планирует применять MBX не только в научных проектах, но и в совместных программах с ведущими тайваньскими производителями микросхем. Поставку запланировали на 2027 год. Заказ станет первым контрактом Multibeam на Тайване, который остаётся одним из главных мировых центров полупроводниковой промышленности.
Обычная электронно-лучевая литография формирует нанометровый рисунок с помощью тонкого пучка электронов. Метод обеспечивает высокую точность и не требует фотомасок, однако один луч работает слишком медленно для многих производственных задач. Multibeam разместила в MBX несколько миниатюрных электронных колонн, которые независимо наносят разные участки рисунка одновременно.
Параллельная работа повышает производительность и позволяет быстро менять конструкцию будущего устройства. Исследователи могут подготовить цифровой макет и почти сразу перенести его на пластину, не заказывая новый комплект масок после каждой правки. По данным производителя, MBX работает более чем в десять раз быстрее традиционных однолучевых систем и создаёт отдельные элементы размером от 30 нанометров. Платформа поддерживает кремниевые пластины, стекло и полупроводниковые материалы на основе карбида кремния, нитрида галлия и фосфида индия.
Университет намерен использовать установку прежде всего для усовершенствованной упаковки чипов. MBX сможет печатать плотные соединения между отдельными кристаллами и корректировать рисунок с учётом их реального положения на подложке. Такой подход нужен для гетерогенной интеграции, при которой процессоры, память, фотонные компоненты и специализированные ускорители объединяют в одном корпусе.
Платформа также рассчитана на исследования в области кремниевой фотоники, квантовых вычислений и сложных многокристальных систем. Для подобных направлений гибкость часто важнее предельной миниатюризации, поэтому электронно-лучевая запись способна дополнить оптическую и экстремальную ультрафиолетовую литографию, а не заменить их.
Multibeam называет MBX своей системой второго поколения. Компания рассчитывает занять нишу между лабораторными электронно-лучевыми установками и крупносерийным производственным оборудованием. Заказ Национального университета Цинхуа станет одной из первых проверок, сможет ли многолучевая литография ускорить не только эксперименты, но и внедрение новых способов сборки микросхем.
- Источник новости
- www.securitylab.ru
